YokoHama Research, Inc.
株式会社 横浜総合研究所
技術紹介
>半導体ウエハ端面 ミクロ検査
回転させたウエハ端面(エッジ)をラインセンサで撮影し、数ミクロンオーダーの微細な欠陥を検出するシステムです。
1GBを超えるような巨大な画像にも対応します。
■特徴
高速3バンド欠陥検出フィルタ
回転蛇行補正
検査レシピ設定用リアルタイムシミュレータ
3Dヴューア
■製品仕様
対象サイズ 200〜300mmウエハ端面(エッジ)および、端面近傍表裏面(ニアエッジ)
分解能 3μ〜10μ/画素
解像度 カラー : (2300〜7500)×300000×3[画素] / 白黒 : ( 320〜1024)×300000[画素]
対象欠陥 傷、欠け、クラック、剥離、汚れ、異物、凹凸、変色 etc.
(1)高速3バンド欠陥検出フィルタ
大中小の3バンドフィルタを超高速で作用させ、様々な欠陥サイズ
の形状を正確に抽出したり、重なった欠陥を別々に検出することが
可能です。
また、ノイズを排除する機能に優れる為、超低コントラストの欠陥で
も、確実に検出します。
(2)回転蛇行補正
エッジ部の撮影は、1画素数ミクロン程度の高分解能であるがゆえに、ウエハの反りや回転中の振動・うねり等の影響で、画像が蛇行する場合があります。
本システムでは、このような場合にも、画像処理で補正することが可能です。
(3)検査レシピ設定用 リアルタイムシミュレータ
検査レシピ設定でパラメータの調整を行う場合は、フィルタやラベリングなどの処理でも、スライダ移動により、リアルタイムに反応するため、最適値への収束が極めて容易です。
2値化などの検出敷居値の設定も本機能で容易に調整できますが、さらに画像適応型の自動モードを提供することで、ユーザのレシピ設定の負担を軽減します。
(4)3Dヴューア
本機能は検出した欠陥座標を、あらかじめ構造定義されたエッジの3次元形状モデルの表面にマッピングし、3D表示するものです。
複数方向から分割撮影された各画像から検出された欠陥群を、1つのモデル構造上で同時に様々な方向で確認できるため、欠陥分布を容易に把握することが可能です。
■実績
国内・海外の大手半導体製造メーカにおいて、本システムを搭載した300mmウエハ端面の検査装置が、多数稼動しております。
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