YokoHama Research, Inc.  株式会社 横浜総合研究所


技術紹介>半導体ウエハ端面 ミクロ検査

 回転させたウエハ端面(エッジ)をラインセンサで撮影し、数ミクロンオーダーの微細な欠陥を検出するシステムです。
 1GBを超えるような巨大な画像にも対応します。

■特徴
  • 高速3バンド欠陥検出フィルタ
  • 回転蛇行補正
  • 検査レシピ設定用リアルタイムシミュレータ
  • 3Dヴューア

■製品仕様
  • 対象サイズ   200〜300mmウエハ端面(エッジ)および、端面近傍表裏面(ニアエッジ)
  • 分解能     3μ〜10μ/画素
  • 解像度     カラー : (2300〜7500)×300000×3[画素] / 白黒 : ( 320〜1024)×300000[画素]
  • 対象欠陥    傷、欠け、クラック、剥離、汚れ、異物、凹凸、変色 etc.

 (1)高速3バンド欠陥検出フィルタ

 大中小の3バンドフィルタを超高速で作用させ、様々な欠陥サイズ
の形状を正確に抽出したり、重なった欠陥を別々に検出することが
可能です。
 また、ノイズを排除する機能に優れる為、超低コントラストの欠陥で
も、確実に検出します。
低コントラスト欠陥 NE
低コントラスト欠陥 line profile

 (2)回転蛇行補正

 エッジ部の撮影は、1画素数ミクロン程度の高分解能であるがゆえに、ウエハの反りや回転中の振動・うねり等の影響で、画像が蛇行する場合があります。

 本システムでは、このような場合にも、画像処理で補正することが可能です。
蛇行
蛇行補正

 (3)検査レシピ設定用 リアルタイムシミュレータ

 検査レシピ設定でパラメータの調整を行う場合は、フィルタやラベリングなどの処理でも、スライダ移動により、リアルタイムに反応するため、最適値への収束が極めて容易です。

 2値化などの検出敷居値の設定も本機能で容易に調整できますが、さらに画像適応型の自動モードを提供することで、ユーザのレシピ設定の負担を軽減します。
SIM

 (4)3Dヴューア

 本機能は検出した欠陥座標を、あらかじめ構造定義されたエッジの3次元形状モデルの表面にマッピングし、3D表示するものです。

 複数方向から分割撮影された各画像から検出された欠陥群を、1つのモデル構造上で同時に様々な方向で確認できるため、欠陥分布を容易に把握することが可能です。
画像(3d)

■実績

 国内・海外の大手半導体製造メーカにおいて、本システムを搭載した300mmウエハ端面の検査装置が、多数稼動しております。

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